Web sitelerimize hoş geldiniz!

AlTa Püskürtme Hedefi Yüksek Saflıkta İnce Film PVD Kaplama Özel Yapılmış

Alüminyum-Tantal

Kısa Açıklama:

Kategori

Alaşım Püskürtme Hedefi

Kimyasal formül

AlTa

Kompozisyon

Alüminyum-Tantal

Saflık

%99,9,%99,95,%99,99

Şekil

Plakalar , Sütun Hedefleri , ark katotları , Özel yapım

Üretim süreci

Vakumlu Eritme, PM

Mevcut boyut

L≤200mm, W≤200mm


Ürün ayrıntısı

Ürün etiketleri

Hedefler, Alüminyum ve Tantal tozlarının harmanlanması veya vakumla eritilmesi ve ardından tam yoğunluğa kadar sıkıştırılmasıyla hazırlanır.Bu şekilde sıkıştırılan malzemeler isteğe bağlı olarak sinterlenir ve daha sonra istenen hedef şekle dönüştürülür.

Alüminyum Tantal püskürtme hedefi yüksek saflığa, homojen mikro yapıya ve mükemmel iletkenliğe sahiptir.Düz panel ekran endüstrisi için ince filmlerin oluşturulmasında yaygın olarak kullanılmaktadır.Yüksek sıcaklığa uygunluğunu geliştirmek için yüksek performanslı Titanyum alaşımı üretmek amacıyla Alüminyum Tantal da eklenebilir.

Al-Ta alaşımının safsızlık içeriği

kompozisyon

İçerik(%)

Ta

Fe

Si

C

O

AlTa60

55.0~65.0

≤0,05

≤0,02

≤0,01

≤0,05

AlTa70

65.0~75.0

≤0,05

≤0,02

≤0,01

≤0,05

Rich Special Materials, Püskürtme Hedefi Üretiminde uzmanlaşmıştır ve Müşterilerin özelliklerine göre Alüminyum Tantal Püskürtme Malzemeleri üretebilir.Ürünlerimiz mükemmel mekanik özelliklere, homojen yapıya, segregasyon, gözenek ve çatlak içermeyen cilalı yüzeye sahiptir.Daha fazla bilgi için lütfen bizimle iletişime geçin.


  • Öncesi:
  • Sonraki: