Hepimizin bildiği gibi vakumlu kaplamada vakumlu buharlaştırma ve iyon püskürtme yaygın olarak kullanılmaktadır.Buharlaşma kaplama ile püskürtme kaplama arasındaki fark nedir?Daha sonra RSM'nin teknik uzmanları bizimle paylaşacak.
Vakumlu buharlaştırma kaplaması, buharlaştırılacak malzemeyi, direnç ısıtması veya elektron ışını ve lazer bombardımanı yoluyla, vakum derecesi 10-2Pa'dan az olmayan bir ortamda belirli bir sıcaklığa kadar ısıtmaktır, böylece moleküllerin termal titreşim enerjisi veya Malzemedeki atomlar yüzeyin bağlanma enerjisini aşar, böylece çok sayıda molekül veya atom buharlaşır veya süblimleşir ve bir film oluşturmak üzere doğrudan alt tabaka üzerinde çökelir.İyon püskürtme kaplama, hedefi katot olarak bombardıman etmek için elektrik alanının etkisi altında gaz deşarjı tarafından üretilen pozitif iyonların yüksek hızlı hareketini kullanır, böylece hedefteki atomlar veya moleküller kaçar ve kaplanmış iş parçasının yüzeyine çökelerek oluşur. gerekli film.
Vakum buharlaştırmalı kaplamanın en yaygın kullanılan yöntemi, basit yapı, düşük maliyet ve rahat çalışma avantajlarına sahip olan dirençli ısıtmadır;Dezavantajı ise refrakter metaller ve yüksek sıcaklığa dayanıklı dielektrik malzemeler için uygun olmamasıdır.Elektron ışınıyla ısıtma ve lazerle ısıtma, dirençli ısıtmanın eksikliklerini giderebilir.Elektron ışını ısıtmasında, odaklanmış elektron ışını, bombardıman edilen malzemeyi doğrudan ısıtmak için kullanılır ve elektron ışınının kinetik enerjisi, malzemenin buharlaşmasını sağlayan ısı enerjisine dönüşür.Lazer ısıtma, ısıtma kaynağı olarak yüksek güçlü lazer kullanır, ancak yüksek güçlü lazerin yüksek maliyeti nedeniyle şu anda yalnızca birkaç araştırma laboratuvarında kullanılabilir.
Püskürtme teknolojisi vakumlu buharlaştırma teknolojisinden farklıdır."Püskürtme", yüklü parçacıkların katı yüzeyi (hedefi) bombardıman etmesi ve katı atomların veya moleküllerin yüzeyden fırlamasına neden olan olguyu ifade eder.Yayılan parçacıkların çoğu, genellikle püskürtmeli atomlar olarak adlandırılan atomik haldedir.Hedefi bombardıman etmek için kullanılan püskürtülmüş parçacıklar elektronlar, iyonlar veya nötr parçacıklar olabilir.Gerekli kinetik enerjiyi elde etmek için iyonların elektrik alanı altında hızlandırılması kolay olduğundan çoğu iyonları bombardıman parçacıkları olarak kullanır.Püskürtme işlemi akkor deşarja dayanmaktadır, yani püskürtme iyonları gaz deşarjından gelir.Farklı püskürtme teknolojileri, farklı parıltılı deşarj modlarını benimser.DC diyot püskürtme, DC kızdırma deşarjını kullanır;Triyot püskürtme, sıcak katot tarafından desteklenen bir ışıltılı deşarjdır;RF püskürtme, RF parıltılı deşarjı kullanır;Magnetron püskürtme, halka şeklinde bir manyetik alan tarafından kontrol edilen bir parıltılı deşarjdır.
Vakum buharlaştırmalı kaplamayla karşılaştırıldığında püskürtmeli kaplamanın birçok avantajı vardır.Örneğin herhangi bir madde, özellikle yüksek erime noktasına ve düşük buhar basıncına sahip elementler ve bileşikler püskürtülebilir;Püskürtülmüş film ile alt tabaka arasındaki yapışma iyidir;Yüksek film yoğunluğu;Film kalınlığı kontrol edilebilir ve tekrarlanabilirliği iyidir.Dezavantajı ise ekipmanın karmaşık olması ve yüksek voltajlı cihazlar gerektirmesidir.
Ayrıca buharlaştırma yöntemi ile püskürtme yönteminin birleşimi iyon kaplamadır.Bu yöntemin avantajları, elde edilen filmin alt tabakaya güçlü yapışması, yüksek biriktirme hızı ve yüksek film yoğunluğuna sahip olmasıdır.
Gönderim zamanı: Temmuz-20-2022