Hepimizin bildiği gibi vakumlu kaplamada yaygın olarak kullanılan yöntemler vakumlu terleme ve iyon püskürtmedir.Terleme kaplaması ile püskürtme kaplama arasındaki fark nedir?insanlar böyle sorular var.Terleme kaplama ile püskürtme kaplama arasındaki farkı sizlerle paylaşalım
Vakumlu terleme filmi, terleme olacak verileri dirençli ısıtma veya elektron ışını ve lazer bombardımanı yoluyla 10-2Pa'dan az olmayan bir vakum derecesine sahip bir ortamda sabit bir sıcaklığa ısıtmaktır, böylece moleküllerin termal titreşim enerjisi veya Verilerdeki atomlar yüzeyin bağlanma enerjisini aşar, böylece birçok molekül veya atom transpirasyona girer veya artar ve bunları doğrudan bir film oluşturmak üzere alt tabaka üzerinde biriktirir.İyon püskürtme kaplama, hedefi katot olarak bombardıman etmek için elektrik alanının etkisi altında gaz deşarjı tarafından üretilen pozitif iyonların yüksek regülasyon hareketini kullanır, böylece hedefteki atomlar veya moleküller kaçar ve kaplamalı iş parçasının yüzeyinde birikerek oluşur. gerekli film.
Vakumlu terlemeyle kaplamanın en yaygın kullanılan yöntemi rezistanslı ısıtma yöntemidir.Avantajları, ısıtma kaynağının basit yapısı, düşük maliyeti ve rahat çalışmasıdır.Dezavantajları ise refrakter metaller ve yüksek sıcaklığa dayanıklı ortamlar için uygun olmamasıdır.Elektron ışınıyla ısıtma ve lazerle ısıtma, dirençli ısıtmanın dezavantajlarının üstesinden gelebilir.Elektron ışını ısıtmasında, odaklanmış elektron ışını, kabuklu verileri doğrudan ısıtmak için kullanılır ve elektron ışınının kinetik enerjisi, veri transpirasyonunu gerçekleştirmek için ısı enerjisine dönüşür.Lazer ısıtma, ısıtma kaynağı olarak yüksek güçlü lazer kullanır, ancak yüksek güçlü lazerin yüksek maliyeti nedeniyle yalnızca az sayıda araştırma laboratuvarında kullanılabilir.
Püskürtme becerisi, vakumlu terleme becerisinden farklıdır.Püskürtme, yüklü parçacıkların vücudun yüzeyine (hedefe) geri bombardıman etmesi, böylece katı atomların veya moleküllerin yüzeyden yayılması olgusunu ifade eder.Yayılan parçacıkların çoğu atomiktir ve buna sıklıkla püskürtmeli atomlar denir.Hedefleri bombalamak için kullanılan püskürtülmüş parçacıklar elektronlar, iyonlar veya nötr parçacıklar olabilir.İyonların elektrik alanı altında gerekli kinetik enerjiyi elde etmesi kolay olduğundan iyonlar çoğunlukla kabuk parçacıkları olarak seçilir.
Püskürtme işlemi akkor deşarja dayanır, yani püskürtme iyonları gaz deşarjından gelir.Farklı püskürtme becerileri farklı parıltılı deşarj yöntemlerine sahiptir.DC diyot püskürtme, DC kızdırma deşarjını kullanır;Triyot püskürtme, sıcak katot tarafından desteklenen bir ışıltılı deşarjdır;RF püskürtme, RF parıltılı deşarjı kullanır;Magnetron püskürtme, halka şeklinde bir manyetik alan tarafından kontrol edilen bir parıltılı deşarjdır.
Vakumlu terleme kaplamasıyla karşılaştırıldığında püskürtmeli kaplamanın birçok avantajı vardır.Herhangi bir madde, özellikle yüksek erime noktasına ve düşük buhar basıncına sahip elementler ve bileşikler püskürtülebiliyorsa;Püskürtülmüş film ile alt tabaka arasındaki yapışma iyidir;Yüksek film yoğunluğu;Film kalınlığı kontrol edilebilir ve tekrarlanabilirliği iyidir.Dezavantajı ise ekipmanın karmaşık olması ve yüksek voltajlı cihazlar gerektirmesidir.
Ayrıca terleme yöntemi ile püskürtme yönteminin birleşimi iyon kaplamadır.Bu yöntemin avantajları, film ile altlık arasında güçlü yapışma, yüksek biriktirme hızı ve filmin yüksek yoğunluğudur.
Gönderim zamanı: Mayıs-09-2022