Hedefin üretim yöntemi

Hedef, elektronik bilgi endüstrisinde sıklıkla kullanılan bir tür materyaldir.Çok geniş bir kullanım alanına sahip olmasına rağmen sıradan insanların bu malzeme hakkında pek fazla bilgisi yoktur.Birçok kişi hedefin üretim yöntemini merak ediyor mu?Daha sonra RSM Teknoloji Departmanından uzmanlar, hedefin üretim yöntemini tanıtacak.

　　Hedefin üretim yöntemi

1. Döküm yöntemi

Döküm yöntemi, alaşım hammaddelerini belirli bir bileşim oranıyla eritmek ve daha sonra eritildikten sonra elde edilen alaşım çözeltisini külçe oluşturmak için kalıba dökmek ve daha sonra mekanik işlemden sonra hedefi oluşturmaktır.Döküm yönteminin genellikle eritilmesi ve vakumda dökülmesi gerekir.Yaygın döküm yöntemleri arasında vakum indüksiyonlu eritme, vakumlu arkla eritme ve vakumlu elektron bombardımanıyla eritme yer alır.Avantajları, üretilen hedefin düşük yabancı madde içeriğine sahip olması, yüksek yoğunluğa sahip olması ve büyük ölçekte üretilebilmesidir;Dezavantajı, erime noktası ve yoğunlukları arasında büyük fark olan iki veya daha fazla metali eritirken, geleneksel eritme yöntemiyle tek biçimli bileşime sahip alaşım hedefi oluşturmanın zor olmasıdır.

　　2. Toz metalurjisi yöntemi

Toz metalurjisi yöntemi, alaşım hammaddelerini belirli bir bileşim oranı ile eritmek, daha sonra eritildikten sonra elde edilen alaşım çözeltisini külçelere dökmek, döküm külçeleri ezmek, ezilmiş tozu şekle sokmak ve daha sonra hedefler oluşturmak için yüksek sıcaklıkta sinterlemek.Bu şekilde oluşturulan hedef, tekdüze kompozisyon avantajlarına sahiptir;Dezavantajları düşük yoğunluk ve yüksek safsızlık içeriğidir.Yaygın olarak kullanılan toz metalurjisi endüstrisi, soğuk presleme, vakumlu sıcak presleme ve sıcak izostatik preslemeyi içerir.