Hedef, ince filmlerin hazırlanmasında temel temel malzemedir.Şu anda yaygın olarak kullanılan hedef hazırlama ve işleme yöntemleri esas olarak toz metalurjisi teknolojisini ve geleneksel alaşım eritme teknolojisini içerirken, biz daha teknik ve nispeten yeni vakumlu eritme teknolojisini benimsiyoruz.
Nikel-krom hedef malzemesinin hazırlanması, müşterilerin farklı saflık gereksinimlerine göre hammadde olarak farklı saflıkta nikel ve kromun seçilmesi ve eritme için vakum indüksiyonlu eritme fırınının kullanılmasıdır.Eritme işlemi genellikle eritme odasında vakumlu ekstraksiyon - argon gazı yıkama fırını - vakumlu ekstraksiyon - inert gaz koruması - eritme alaşımı - rafinaj - döküm - soğutma ve kalıptan çıkarma işlemlerini içerir.
Döküm külçelerin bileşimini test edeceğiz ve gereksinimleri karşılayan külçeler bir sonraki adımda işlenecek.Daha sonra nikel-krom külçe dövülerek daha düzgün bir haddelenmiş levha elde etmek için haddelenir ve daha sonra haddelenmiş levha, müşterinin gereksinimlerini karşılayan nikel-krom hedefini elde etmek için müşterinin gereksinimlerine göre işlenir.
Gönderim zamanı: Şubat-01-2023