Geniş alan kaplamada hedef malzemenin üretim kalitesine etkileri nelerdir?

　　Modern binalarda geniş alanlarda cam aydınlatma kullanılmaya başlandı.Bu yön bize daha aydınlık odalar ve daha geniş ufuklar sağlar.Öte yandan camdan iletilen ısı çevre duvarlara göre çok daha fazla olduğundan tüm binanın enerji tüketimi önemli ölçüde artmaktadır..

　　Gelişmiş ülkelerdeki %90'dan fazla düşük radyasyonlu cam kullanım oranıyla karşılaştırıldığında, Çin'deki düşük E camın penetrasyon oranı yalnızca %12 civarındadır ve Çin'in hala geliştirme için çok fazla alanı vardır. sıradan cam ve çevrimiçi low-E cam, çevrimdışı LowE camın üretim maliyeti yüksektir, bu da uygulamayı belirli bir dereceye kadar kısıtlar. Yerli cam işleme işletmeleri, kaplama ürünlerinin üretim maliyetini sürekli olarak azaltma, uygulamayı hızlandırma yükümlülüğüne sahiptir, enerji tasarrufu yapın, çevreyi iyileştirin ve sosyal sürdürülebilir kalkınmayı sağlayın.

　　1、Hedef şeklinin etkisi

　　Geniş kaplama alanlarında genellikle düzlemsel yönelim ve dönme yönelimi de dahil olmak üzere şekle göre hedef malzeme kullanılır.Genel düzlemsel hedefler arasında bakır hedef, gümüş hedef,Ni-Cr hedefi ve grafit hedefi.Genel dönen hedefte çinko alüminyum hedef, çinko kalay hedef, silikon alüminyum hedef, kalay hedef, titanyum oksit hedef, çinko oksit alüminyum hedef vb. bulunur. Hedef şekli, magnetron püskürtme kaplamanın stabilitesini ve film özelliklerini ve kullanımını etkileyecektir. hedef oranı oldukça yüksektir.Hedefin şekil planlaması değiştirildikten sonra kaplamanın kalitesi ve üretim gücü artırılabilir ve maliyetten tasarruf edilebilir..

　　2、Nispi yoğunluk ve hedefin temizlenmesinin etkisi

Hedefteki bağıl yoğunluk, pratik yoğunluğun hedefin teorik yoğunluğuna oranıdır, tek bileşenli hedefin teorik yoğunluğu kristal yoğunluğudur ve alaşımın veya karışım hedefinin teorik yoğunluğu teorik olarak hesaplanır. Her bir elementin yoğunluğu ve alaşım veya karışımdaki oran..Termal püskürtücünün hedef düzeni gözeneklidir, yüksek oranda oksijenlidir (vakumlu spreyle bile alaşım hedefinde oksitlerin ve nitrolu bileşiklerin üretimi kaçınılmazdır) ve görünümü gridir ve metalik parlaklıktan yoksundur.Adsorplanan yabancı maddeler ve nem, kirliliğin başlıca kaynaklarıdır.

3、Hedef parçacık boyutunun ve kristal yönünün etkisi

Aynı hedef ağırlığında, küçük parçacık boyutuna sahip hedef, büyük parçacık boyutuna sahip hedeften daha hızlıdır.Bunun başlıca nedeni, sıçrama prosesinde parçacık sınırının kolayca ihlal edilebilmesidir; parçacık sınırı ne kadar fazla olursa, film oluşumu da o kadar hızlı olur.Parçacık boyutu sadece püskürtme hızını etkilemez, aynı zamanda film oluşumunun kalitesini de etkiler. Örneğin, EowE ürünlerinin üretim sürecinde NCr, kızılötesi yansıtıcı katman Ag'nin bakım katmanı olarak görev yapar ve kalitesinin üzerinde büyük etkisi vardır. kaplama ürünleri.NiCr film tabakasının büyük sönme katsayısı nedeniyle genellikle incedir (yaklaşık 3nm). Parçacık boyutu çok büyükse püskürtme süresi kısalır, film tabakasının yoğunlaşması kötüleşir, Ag tabakasının bakım etkisi azalır ve kaplama ürünlerinin oksidasyonla kaplamasının çıkarılması sağlanır.

　　çözüm

　　Hedef malzemenin şekil planlaması esas olarak hedef malzemenin kullanım oranını etkiler.Makul boyut planlaması, hedef malzemenin kullanım oranını artırabilir ve maliyetten tasarruf edebilir. Parçacık boyutu ne kadar küçük olursa, kaplama hızı o kadar hızlı olur, tekdüzelik o kadar iyi olur.Saflık ve yoğunluk ne kadar yüksek olursa, gözeneklilik o kadar düşük olur, film kalitesi o kadar iyi olur ve deşarj cürufunun azalma olasılığı da o kadar düşük olur.