Hedef, geniş bir pazara, uygulama alanına ve gelecekte büyük bir gelişmeye sahip olmaktır.Hedef fonksiyonlarını daha iyi anlamanıza yardımcı olmak için, aşağıda RSM mühendisi hedefin ana fonksiyonel gereksinimlerini kısaca tanıtacaktır.
Saflık: Saflık hedefin ana işlevsel göstergelerinden biridir çünkü hedefin saflığının filmin işlevi üzerinde büyük etkisi vardır.Ancak pratik uygulamada hedefin saflık gereksinimleri de farklıdır.Örneğin, mikroelektronik endüstrisinin hızla gelişmesiyle birlikte, silikon levhanın boyutu 6 "'den 8"'e 12"'ye çıkarıldı ve kablo genişliği 0,5um'dan 0,25um'a, 0,18um'a ve hatta 0,13um'a düşürüldü.Önceden, hedef saflığın %99,995'i 0,35umik proses gereksinimlerini karşılayabilirken, 0,18um çizgilerinin hazırlanması hedef saflığın %99,999'unu, hatta %99,9999'unu gerektiriyordu.
Safsızlık içeriği: Hedef katılardaki safsızlıklar ve gözeneklerdeki oksijen ve su buharı, biriken filmlerin ana kirlilik kaynaklarıdır.Farklı amaçlara yönelik hedeflerin, farklı safsızlık içerikleri için farklı gereksinimleri vardır.Örneğin yarı iletken endüstrisinde kullanılan saf alüminyum ve alüminyum alaşımlı hedeflerin alkali metal içeriği ve radyoaktif element içeriği açısından özel gereksinimleri vardır.
Yoğunluk: Hedef katıdaki gözenekleri azaltmak ve püskürtme filminin işlevini geliştirmek için hedefin genellikle yüksek yoğunluğa sahip olması gerekir.Hedefin yoğunluğu sadece püskürtme hızını etkilemez, aynı zamanda filmin elektriksel ve optik fonksiyonlarını da etkiler.Hedef yoğunluğu ne kadar yüksek olursa filmin işlevi de o kadar iyi olur.Ayrıca hedefin yoğunluğu ve mukavemeti iyileştirilir, böylece hedef püskürtme prosesindeki termal stresi daha iyi kabul edebilir.Yoğunluk aynı zamanda hedefin temel işlevsel göstergelerinden biridir.
Gönderim zamanı: Mayıs-20-2022