Püskürtme hedef malzemelerinin seçiminde vakumlu kaplama insanlar için bir sorun olmuştur, çünkü püskürtme kaplama, özellikle magnetron püskürtme kaplama becerilerinin geliştirilmesi, ince filmlerin malzeme hazırlanmasını hedefleyebilecek herhangi bir bilgi için söylenebilir. İyon bombardımanı ile, çünkü kaplama işleminde hedef malzemenin alt tabakaya püskürtülmesi, püskürtme filminin kalitesi üzerinde önemli bir etkiye sahiptir. Bu nedenle, hedef malzeme gereksinimleri daha sıkıdır.Burada Beijing Relaxation editörü ile birlikte vakumlu kaplamada püskürtme hedefinin rolünü öğreneceğiz.
一、Hedef malzemenin seçim prensibi ve sınıflandırılması
Hedef malzemenin seçiminde filmin kendisinin kullanımının yanı sıra aşağıdaki sorunlar da dikkate alınmalıdır:
Sorun 1. Membranın kullanım ve performans gereksinimlerine göre, hedef malzemenin saflık, magazin içeriği, bileşen bütünlüğü, işleme doğruluğu vb. teknik gereksinimleri karşılaması gerekir.
Sorun 2. Hedef malzeme, film oluşturulduktan sonra iyi mekanik dayanıma ve kimyasal stabiliteye sahip olmalıdır;
Problem 3. Film malzemesinin, reaktif püskürtme filmi olarak reaksiyon gazıyla kolayca bileşik film oluşturması gereklidir;
Sorun 4. Hedefin ve matrisin güçlü olmasını sağlamak gerekir, aksi takdirde matrise iyi yapışan film malzemesi benimsenmeli, önce bir alt film tabakası püskürtülmeli ve daha sonra gerekli film tabakası hazırlanmalıdır;
Soru 5. Filmin performans gereksinimlerini karşılama öncülünde, püskürtme filminin termal geriliminin etkisini azaltmak için hedefin termal genleşme katsayısı ile matris arasındaki fark ne kadar küçükse o kadar iyidir;
Yaygın olarak kullanılan birkaç hedefin hazırlanması
(1) CR hedefi
Püskürtme film malzemesi olarak kromun, yüksek yapışma özelliğine sahip temel malzeme ile birleştirilmesi kolay değildir ve krom ve oksit CrQ3 filmi, mekanik özellikleri, asit direnci ve termal stabilitesi daha iyidir.
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. ağırlıklı olarak faaliyet göstermektedir: titanyum hedefi zirkonyum hedefi, alüminyum hedefi, nikel hedefi, krom hedefi, tungsten hedefi, molibden hedefi, bakır hedefi, silikon hedefi, niyobyum hedefi, tantal hedefi, titanyum-silikon alaşımı hedef, titanyum-niyobyum alaşımlı hedef, titanyum-tungsten alaşımlı hedef, titanyum-zirkonyum alaşımlı hedef, nikel-krom alaşımlı hedef, silika-alüminyum alaşımlı hedef, nikel-vanadyum alaşımlı hedef, krom-alüminyum-silikon üçlü alaşımlı hedef, Ti al si Dekorasyon/sert yüzey ve fonksiyonel kaplama, mimari cam, düz ekran/optik fotoelektrik, optik depolama, elektronik, baskı ve diğer mesleklerde yaygın olarak kullanılan üçlü alaşımlı hedef malzeme.
Gönderim zamanı: Haz-02-2022