Magnetron püskürtme kaplama, daha önceki buharlaştırma kaplama yöntemiyle karşılaştırıldığında yeni bir fiziksel buhar kaplama yöntemidir ve birçok açıdan avantajları oldukça dikkat çekicidir.Olgun bir teknoloji olarak magnetron püskürtme birçok alanda uygulanmıştır.
Magnetron püskürtme prensibi:
Püskürtülmüş hedef kutbu (katot) ile anot arasına dik bir manyetik alan ve elektrik alanı eklenir ve gerekli inert gaz (genellikle Ar gazı) yüksek vakum odasına doldurulur.Kalıcı mıknatıs, hedef malzemenin yüzeyinde 250-350 gaus'luk bir manyetik alan oluşturur ve ortogonal elektromanyetik alan, yüksek voltajlı elektrik alanıyla oluşur.Elektrik alanının etkisi altında, Ar gazının pozitif iyonlara ve elektronlara iyonlaşması, hedef ve belli bir negatif basınca sahip olması, manyetik alanın etkisi ile hedeften kutuptan iyonlaşma olasılığı artması ve çalışma gazının iyonlaşma olasılığının artması, hedefin yakınında yüksek yoğunluklu bir plazma oluşturur. katot, Lorentz kuvvetinin etkisi altında Ar iyonu, hedef yüzeye uçmak için hızlanır, hedef yüzeyi yüksek hızda bombardıman eder, Hedefe püskürtülen atomlar momentum dönüşümü prensibini takip eder ve hedef yüzeyden yüksek kinetikle uzaklaşır. Substrat biriktirme filmine enerji.
Magnetron püskürtme genel olarak iki türe ayrılır: DC püskürtme ve RF püskürtme.DC püskürtme ekipmanının prensibi basittir ve metal püskürtme sırasında hız yüksektir.RF püskürtmenin kullanımı, iletken malzemelerin püskürtülmesine ek olarak, aynı zamanda iletken olmayan malzemelerin püskürtülmesinin yanı sıra oksitlerin, nitrürlerin ve karbürlerin ve diğer bileşik malzemelerin reaktif püskürtmeyle hazırlanmasına ek olarak daha kapsamlıdır.RF frekansı artarsa mikrodalga plazma püskürtmeye dönüşür.Günümüzde elektron siklotron rezonans (ECR) tipi mikrodalga plazma püskürtme yaygın olarak kullanılmaktadır.
Magnetron püskürtme kaplama hedef malzemesi:
Metal püskürtme hedef malzemesi, kaplama alaşımlı püskürtme kaplama malzemesi, seramik püskürtme kaplama malzemesi, borür seramik püskürtme hedef malzemeleri, karbür seramik püskürtme hedef malzemesi, florür seramik püskürtme hedef malzemesi, nitrür seramik püskürtme hedef malzemeleri, oksit seramik hedef, selenid seramik püskürtme hedef malzemesi, silisit seramik püskürtme hedefi malzemeleri, sülfit seramik püskürtme hedefi malzemesi, Telluride seramik püskürtme hedefi, diğer seramik hedef, krom katkılı silikon oksit seramik hedefi (CR-SiO), indiyum fosfit hedefi (InP), kurşun arsenit hedefi (PbAs), indiyum arsenit hedef (InAs).
Gönderim zamanı: Ağu-03-2022